在大規(guī)模的集成電路超純水水質中,優(yōu)先獲得關注的水質指標為:電阻率、TOC、硅、微粒、重金屬、溶解氧、堿金屬等,這類物質會溶于水中,而在集成電路芯片的制造過程中,使用的水質中所含離子成分越多,則對產品的制造工藝的影響越大,使得產品良率降低。
集成電路的超純水設備常用于工業(yè)半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜板的制作以及硅片氧化用的水汽源等。此外真空管等的制作、厚膜和薄膜電路、固態(tài)電子器件、印刷電路等也都是需要使用超純水。隨著科技的不斷發(fā)展,集成電路的集成度與日俱增,對水質的要求也隨之增高,從而使得超純水處理工藝及產品的可持續(xù)性、生產的連續(xù)性、設備的自動化和簡易性都提出了更加嚴格的要求。
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
滲源純水針對于現(xiàn)在的集成電路用超純水設備采用先進的全自動雙級反滲透+EDI電除鹽+拋光混床處理技術,在前置預處理部分配套使用反滲透處理,能有效的去除水中各種鹽分和雜質,緊接著使用EDI電除鹽和拋光混床技術,能有效的去除水質的可溶性離子,進一步的提升出水水質,使得最終的出水水質達到用水工藝要求。
1.采用進口增壓泵,噪音低效率高,穩(wěn)定可靠
2.全自動電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便。
3.采用全自動預處理系統(tǒng),實現(xiàn)無人化操作,減少人工維護成本。
4.采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉。
5.切合當?shù)厮|的個性化設計,全方位滿足需求。
6.在線水質監(jiān)測控制,實時監(jiān)測水質變化,保障水質安全。
7.節(jié)省了再生用水及再生污水處理設施,產水率高(可達95%)。
8.無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施,使用安全可靠,避免工人接觸酸堿。
9.簡化安裝過程,降低場地占地面積。
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。
2、晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制。
3、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。
4、集成電路生產中高純水清洗硅片。
5、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。
6、光電產品、其他高科技精微產品 。
7、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。
8、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。
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